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技術文章

1200℃高校實驗室坩堝爐

技術文章

    高校實驗室坩堝爐集控制系統(tǒng)與爐膛體,其中爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型,加熱元件采用硅鉬棒。超大口徑的石英爐腔和真空密封法蘭系統(tǒng),可在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品。主要用于金屬、非金屬及化合物材料進行燒結、融化、分析。控制面板配有智能溫度調節(jié)儀,控制電源開關、主加熱工作/停止按鈕,以便隨時觀察。

1200℃高校實驗室坩堝爐適用范圍:

       該款坩堝熔化爐的各項指標均達到要求,主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片,也可用于烘燒或燒結陶瓷材料。

產品名稱

1200℃高校實驗室坩堝爐

產品型號

AFD-1200-LG

爐膛有效尺寸

200x210mm

溫控系統(tǒng)

30段PID微電腦可編程自動控制 (溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調節(jié)技術,具有PID調節(jié)、自整定功能,并可編制30段升降溫程序)
(用戶可選配液晶觸摸屏顯示)

加熱速率

0~20℃/分

控溫度

±1℃

高溫度

1100℃

額定溫度

1200℃(高可選1700℃)

溫控方式

智能化30段可編程控制(用戶可選配液晶觸摸屏顯示)

溫控保護

具有超溫和斷偶保護功能

加熱元件

合金加熱絲

工作電壓

AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定制)

大功率

4KW

測溫元件

K型熱電偶測溫,正后方測溫

凈         重

80KG

爐體結構可選

立式、臥式、體式、分開式

開門方式可選

側開、上開、下開、側滑

相關配件

坩堝鉗、高溫手套、熱電偶、墊堵

產品認證

CE認證

質保期

年(易損件除外)

聯(lián)