簡要描述：密真空氣氛爐廣泛用于高校、科研院所、工礦企業(yè)等做粉末、電子、冶金、醫(yī)藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結(jié)和金屬熱處理等實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)理想設(shè)備。

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-10-10
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產(chǎn)品介紹

品牌	中奧菲達(dá)	升溫速度（達(dá)到最高溫）	60/min
內(nèi)部尺寸	300-200-120mm	加熱方式	硅碳棒
最大功率	4000kW	控溫精度	1℃
最高溫度	1400℃	價(jià)格區(qū)間	1萬-2萬
儀器種類	真空爐	產(chǎn)地類別	國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),綜合

適用范圍
本設(shè)備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業(yè)等做粉末、電子、冶金、醫(yī)藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結(jié)和金屬熱處理等實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)理想設(shè)備。

密真空氣氛爐真空氣氛系統(tǒng)：
真空密封系統(tǒng)采用特種設(shè)計(jì)技術(shù)，具有操作安全、方便、真空度高，密封性好，真空保持時(shí)間長，密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封，氣體經(jīng)過流量計(jì)后由針型閥開關(guān)進(jìn)入爐管內(nèi)，閥控配有進(jìn)氣閥，排氣、抽真空閥。減壓閥，安全閥，可通多種氣體、氬氣、氮?dú)?、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體，可充入高壓氣體，氣氛壓力限值0.1MPa，采用*的密封技術(shù)，可長時(shí)間保壓，安全性能好，操作方便。

密真空氣氛爐主要技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng) 目	單位	有效使用尺寸	有效使用尺寸			有效使用尺寸		有效使用尺寸
爐膛尺寸	mm	200X150X150	300X200X200			500X300X200		500X500X500
溫度類別	℃	1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃
控制度	℃	±1℃
溫度均勻度	℃	≤1		≤1℃	≤1.5℃		≤2℃
加熱元件		根據(jù)溫度而定，采用電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。
電壓/頻率	AC/Hz	220/50		380/50	380/50		380/50
設(shè)計(jì)功率	KW	4		10	15		25
溫控方式		微電腦智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、全自動(dòng)控制、自整定功能，多段程序編程，并可編制各種升溫、保溫、降溫程序，控溫度高；集成模塊可控硅控制、移相觸發(fā)。
保護(hù)裝置	獨(dú)立超溫保護(hù)、超壓、超流、漏電、短路等保護(hù)，自動(dòng)化程度較高，
主要附件	高溫手套，坩堝鉗，發(fā)熱元件，門堵，合格證，說明書，質(zhì)保書。
可選配	無紙記錄儀，有紙記錄儀，電腦液晶觸摸屏，人機(jī)畫面通訊聯(lián)機(jī)功能，多臺(tái)設(shè)備臺(tái)電腦控制，打印與保存數(shù)據(jù)，實(shí)現(xiàn)操作簡單方便，實(shí)時(shí)可查看與保存數(shù)據(jù)。